芯片生产为什么要用到光刻机?光刻机是什么?
之前也提到过了 , 芯片在x nm程度上的芯片工艺 , 而芯片在生产加工需要用到的就是光刻机 , 可想而知这是多么精细的作业 , 那么具体光刻机是什么呢?又是如何工作的呢?今天就来说说光刻机是什么 。
光刻机是什么
光刻机是什么?
光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机 , 曝光系统 , 光刻系统等 。常用的光刻机是掩膜对准光刻 , 所以叫 Mask Alignment System.
我们都知道芯片这么小 , 这么精细 , 那么是如何生产出来的呢?用刀刻?用水冲?自然不行 , 因为芯片远比这小得多 , 动不动就是nm的 , 这些最小也就是μm级别 , 那么到底是什么刻刀能做到这么精细 。所以就想到了 , 用光线在芯片上刻 , 就是光刻机 。
Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶 , 然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程 。形象的来说光刻机就是个“投影仪” , 把我们想要的图案投影到芯片上 。
光刻机又是怎么个光刻法呢?
老式的胶卷相机应该听过吧 , 胶片平日里是黑色的 , 不能见光的 , 一旦见光就会变白 。同理 , 光刻过程中也是用了一种一见光就会产生反应的特殊胶片 。如果要在芯片上刻一个图案的时候 , 就在芯片上涂上这种特殊胶片 , 把这个图案形状的光照上去 , 再经过一些列后续处理 , 这个芯片上有了这个图案 。
【芯片生产为什么要用到光刻机?光刻机是什么?】以上就是光刻机是什么的形象理解了 。其实听起来好像不是很难 , 但是在芯片往越来越小的趋势发展之时 , 老旧的光刻机已经不能满足要求了 , 就已经不能做到这么精细的处理了 。
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